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「PITTA MASK」が2014年度グッドデザイン・ベスト100に選出

2014/10/01

株式会社アラクス(本社:名古屋市、代表取締役社長:荒川愼太郎)の「PITTA MASK(ピッタ・マスク)」が、この度2014年度グッドデザイン・ベスト100(主催:公益財団法人日本デザイン振興会)に選出されました。

GD100

「PITTA MASK」は“顔に密着して息がしやすい”をデザインコンセプトとして開発いたしました結果、特に審査員からは「PITTA MASKは、発泡ポリウレタンの素材特性を最大限活かして、防塵機能・顔へのフィッティング・耳の痛みをトータルに解決している点が見事な開発である。洗浄して繰り返し使える点もユーザーにとって安心できる。」として高く評価されました。
当社といたしましては、マスクユーザーの皆様が花粉症による不快な時期を、マスクの着用によって少しでも快適に過ごすことができるように、今後もデザインコンセプトに則り、製品作りを積極的に推進してまいりたいと考えております。

PT_本体

PITTA MASK
化粧用パフにも使用されている、柔らかく伸縮性のあるポリウレタンをベースに開発された新素材を採用。顔型に密着し、花粉の侵入を徹底ガードするうえ、花粉捕集率が99%でありながら、通気性がよく、圧倒的に息がしやすいという相反する性能を兼ね備えた全く新しい「新世代花粉用マスク」です。
また、3回洗っても花粉捕集率を保ちます。

3枚入、メーカー希望小売価格 474円(税抜き)

PT_PKG

グッドデザイン賞審査委員による評価コメント
これまで、ほとんどのマスクは伸縮性のない不織布を基布としているため、フィルターそのものの性能が高くなっても、個々の顔にフィットして隙間をなくすことに関しては、画期的な解決は施されてこなかった。PITTA MASKは、発泡ポリウレタンの素材特性を最大限活かして、防塵機能・顔へのフィッティング・耳の痛みをトータルに解決している点が見事な開発である。洗浄して繰り返し使える点もユーザーにとって安心できる。

グッドデザイン賞受賞展「グッドデザインエキシビション2014」でPITTA MASKを出展
本年10月31日(金)から東京ミッドタウンで開催される受賞展「グッドデザインエキシビション2014(G 展)」会場で、PITTA MASKが本年度受賞作として紹介される予定です。

「グッドデザインエキシビション2014(G 展)」は最新のグッドデザイン賞受賞デザインが一堂に紹介されるイベントとして毎年人気を博しています。

グッドデザインエキシビション2014(G展)
会期:10月31日(金)〜11月4日(火) 11時〜20時
会場:東京ミッドタウン(東京都港区六本木)

グッドデザイン賞とは
グッドデザイン賞は、1957年に創設されたグッドデザイン商品選定制度を発端とする、日本で唯一の総合的なデザイン評価・推奨の運動です。これまで55年以上にわたって、デザインを通じて日本の産業や生活文化を向上させる運動として展開され、のべ受賞件数は39,000件以上にのぼります。今日では国内外の多くの企業や団体などが参加する世界的なデザイン賞です。グッドデザイン賞受賞のシンボルである「Gマーク」は、すぐれたデザインを示すシンボルマークとして広く親しまれています。

グッドデザイン・ベスト100とは
2014年度にグッドデザイン賞を受賞したすべてのデザインの中で、完成度、審美性、独自性、提案性などの面で総合的に特に高い評価が与えられた100点の総称です。

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